50%，JSR 和信越化学则在 ArF 浸没式光刻胶市场合计 占比超 40%。我国光刻胶国产化率不足 20%，其中高端 ArF/EUV 胶 低于 1%，但我国在高端光刻胶领域已实现技术突破，南大光大的 ArF 胶已通过 28nm 工艺验证，预计 2025 年进入中芯国际供应链。后续随 着客户验证通过有望带来订单，但光刻胶所用主要原材料成膜树脂及 光引发剂，我国企业仍在研发和布局阶段，进而限制了光刻胶的量产。